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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆产量销售厂家厂为于华中区域,最主要的产量销售8寸大半导体设备晶圆,平均化工废水尾气消费量上涨约800吨。致使产量销售工作中运用很多氢氧化钠开展晶圆蚀刻,会造成化工废池里氟化物有机废气浓度高达hg200-300mg/L,远超欧洲国家尾气排放出规范(10mg/L下列)。 废渣营养成分及渠道 生产废水主耍来4个阶段: 晶圆蚀刻工艺 :含高盐浓度氟化物(HF)、氰化钠及多量天价属 化学式自动化机械磨光(CMP)污废水 :含納米级硅顆粒、巧妙络合剂 主设备洗废气 :含异丙醇、高锰酸盐指数等有机酸物 清理加工步骤流程 通过"生物学积淀物中+混泥土积淀物中+深入过滤程序"三级职业资格证书解决装置: 一级通过成绩解决 :添加氯化钙和氢脱色钙,变成氟化钙沉定,氟化物我们要除率达85% 三级治理 :含有PAC(缔合氯化铝)和PAM(pp聚丙烯酰胺),彻底清除氢氧化铁态空气空气污染物 三级分销解决 :按照多物质吸咐器和化学活化炭吸咐,溢水氟化物氧浓度稳定性在8mg/L低于 重要设施设备涉及到:pH自然调节器体统、斜管滤渣池、板框淤泥压滤机(淤泥脱干)。 结果英文效率 活动运作3年监测网数据表示表示: 氟化物平均值氧浓度:7.2mg/L(降至地方准则) COD出掉率:92% 活性污泥含水分率:≤65% 年回笼氟化钙副企业产品约150吨,控制自然资源化再生利于

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